与此同时。
李察拿着沙子,进入了伊甸园中。
走进主实验室,把沙子倒入一个漏斗状的容器中,就开始清洗、筛选、过🔺滤,经过不少的流程,最后得到合🃡格的纯净沙子。
把纯净沙子转移到另一个圆柱状的容器中,掺入大量的焦炭,放入🜄⛋😷特殊的熔炉内就开始加热。
加热过程中,沙子发出声响,李察清楚🝬,这是沙子的成分——二氧化硅(SiO2),与焦炭的成分——碳(C)反应,最终会🍛🈱生成冶金级别的、粗度在98%左右的粗硅(Si)。
加热之后,李察得到了足够的粗硅,没有犹豫,又快速的开始进行第二步处理。具体操作,就是🌙⛇用盐酸进行氯化,然后蒸馏,一步步的制作出高纯度的多晶硅。按照标准,制作出了的高纯度多晶硅,其纯度为99.999999999%——一共11个9——这是硬性要求,如果达不到,之后制作出了的产品,很有可能存在一定的缺陷。
进行完这一步,检测合格后,⛥李察没有停下,又开始把多晶硅放入特制容器中,在高温效果下熔🌙⛇解成高温液体。
成功熔解后,在液体中🗩🞑放入一小粒硅晶体硅种,以这一粒硅晶体硅种作为附着物,让液体在底部一点点的成形。当放入的、系着线的硅晶体硅种,被缓缓的拉出来的时候,在硅🕥晶体硅种的下面便形成了一根圆棒。这是单晶硅晶棒,也就是所谓的“长晶”,能看到长晶呈标准的圆柱体,半径和最初放入的硅晶体硅种一致。
至此,芯片的底片就完成了🀦制作🜝🃋🖋阶段,接下来的是加工阶段。
把制作出来的单晶硅晶棒收起,李😝察迈步,快速走🂭👽🎓出了主实验室,前往了机械加工扇区,然后进入研究室。
在研究室内,李察把单晶硅🀦晶棒放上加工台,保持竖直状态,调整机械臂下移,开始进行🈰🁼精准的🌙⛇切割。
“刷!”
机械臂挥过,就看到单晶硅晶棒立刻被削去一层🂧👈,削去的部分正好是一个薄薄的🀦⚧📲圆片,直径十多厘米。
把圆片细细打磨、抛光,就看到🜝🃋🖋圆片的表面光亮无比🂄🌑⚃,宛如镜子,成为了一个合格的圆晶——硅晶圆片,这算是集成电路工业中,最基本的🎉🏑🙛原料。
把圆🞜晶按照一定规格切割🙍🉃🄥后,便是😝芯片最原始的状态,也就是所谓的底片。
至此,底片制作完成。
……
底片制作完成后,需要解决🀦的便🜝🃋🖋是😝光刻胶和显影液。
光刻胶是涂抹在底片上的液体,在被特殊的光线照射🂄🌑⚃后,会产生特殊的变化,然后浸入显影液中,进行特殊的🞭🗖🛨反应,便能得到蒙板上的图案。
一般🞜来说,光🌧刻胶有两大类——正性光刻胶,☫🏀和负性光刻胶。
正性光刻胶,是曝光部分发生光化学反应溶于显影液,未曝光部分不溶于显影液,仍然保留在衬底上,最终在🞭🗖🛨衬底形成的图案和蒙板上的图案相同。
负性光刻胶,是曝光部分因为交联固化作用不溶于显影液,未曝光部分则溶于显影液,最终在衬底形成的图案和🜿🇾🞎蒙板上的正好相反。
李察经过一番考虑后,决定用正性光刻胶,🗋这样后面制作蒙板的话,也比较容易。
李察拿着沙子,进入了伊甸园中。
走进主实验室,把沙子倒入一个漏斗状的容器中,就开始清洗、筛选、过🔺滤,经过不少的流程,最后得到合🃡格的纯净沙子。
把纯净沙子转移到另一个圆柱状的容器中,掺入大量的焦炭,放入🜄⛋😷特殊的熔炉内就开始加热。
加热过程中,沙子发出声响,李察清楚🝬,这是沙子的成分——二氧化硅(SiO2),与焦炭的成分——碳(C)反应,最终会🍛🈱生成冶金级别的、粗度在98%左右的粗硅(Si)。
加热之后,李察得到了足够的粗硅,没有犹豫,又快速的开始进行第二步处理。具体操作,就是🌙⛇用盐酸进行氯化,然后蒸馏,一步步的制作出高纯度的多晶硅。按照标准,制作出了的高纯度多晶硅,其纯度为99.999999999%——一共11个9——这是硬性要求,如果达不到,之后制作出了的产品,很有可能存在一定的缺陷。
进行完这一步,检测合格后,⛥李察没有停下,又开始把多晶硅放入特制容器中,在高温效果下熔🌙⛇解成高温液体。
成功熔解后,在液体中🗩🞑放入一小粒硅晶体硅种,以这一粒硅晶体硅种作为附着物,让液体在底部一点点的成形。当放入的、系着线的硅晶体硅种,被缓缓的拉出来的时候,在硅🕥晶体硅种的下面便形成了一根圆棒。这是单晶硅晶棒,也就是所谓的“长晶”,能看到长晶呈标准的圆柱体,半径和最初放入的硅晶体硅种一致。
至此,芯片的底片就完成了🀦制作🜝🃋🖋阶段,接下来的是加工阶段。
把制作出来的单晶硅晶棒收起,李😝察迈步,快速走🂭👽🎓出了主实验室,前往了机械加工扇区,然后进入研究室。
在研究室内,李察把单晶硅🀦晶棒放上加工台,保持竖直状态,调整机械臂下移,开始进行🈰🁼精准的🌙⛇切割。
“刷!”
机械臂挥过,就看到单晶硅晶棒立刻被削去一层🂧👈,削去的部分正好是一个薄薄的🀦⚧📲圆片,直径十多厘米。
把圆片细细打磨、抛光,就看到🜝🃋🖋圆片的表面光亮无比🂄🌑⚃,宛如镜子,成为了一个合格的圆晶——硅晶圆片,这算是集成电路工业中,最基本的🎉🏑🙛原料。
把圆🞜晶按照一定规格切割🙍🉃🄥后,便是😝芯片最原始的状态,也就是所谓的底片。
至此,底片制作完成。
……
底片制作完成后,需要解决🀦的便🜝🃋🖋是😝光刻胶和显影液。
光刻胶是涂抹在底片上的液体,在被特殊的光线照射🂄🌑⚃后,会产生特殊的变化,然后浸入显影液中,进行特殊的🞭🗖🛨反应,便能得到蒙板上的图案。
一般🞜来说,光🌧刻胶有两大类——正性光刻胶,☫🏀和负性光刻胶。
正性光刻胶,是曝光部分发生光化学反应溶于显影液,未曝光部分不溶于显影液,仍然保留在衬底上,最终在🞭🗖🛨衬底形成的图案和蒙板上的图案相同。
负性光刻胶,是曝光部分因为交联固化作用不溶于显影液,未曝光部分则溶于显影液,最终在衬底形成的图案和🜿🇾🞎蒙板上的正好相反。
李察经过一番考虑后,决定用正性光刻胶,🗋这样后面制作蒙板的话,也比较容易。